近日，国内多家半导体设备及材料企业联合宣布，在高端光刻机核心零部件的国产化替代研发上取得突破性进展。这一成果标志着我国在极紫外光刻EUV）相关的精密光学系统、双工件台及高精度光源等关键领域，成功打破了 ...
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